物理气相沉积
规范用词物理气相沉积
英文对照physical vapor deposition;PVD
名词定义用物理方法将源物质转移到气相中，直接沉积到工件表面形成薄膜或涂层的技术。通常在真空中进行，有真空沉积、溅射沉积、等离子体增强沉积和离子束增强沉积等形式。
所属学科材料科学技术 > 材料科学技术基础 > 材料合成、制备与加工 > 薄膜制备技术
名词审定材料科学技术名词审定委员会
见载刊物《材料科学技术名词》 科学出版社
公布时间2011年
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