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去胶

规范用词去胶

英文对照stripping of photoresist

名词审定电子学名词审定委员会

见载刊物《电子学名词》科学出版社

公布时间1993年

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气相质量转移系数gas-phase mass transfer coefficient
界面反应率常数interface reaction-rate constant
表面反应控制surface reaction control
台阶覆盖step-coverage
二氧化硅silicon dioxide
热氧化thermal oxidation
干氧氧化dry-oxygen oxidation
湿氧氧化wet-oxygen oxidation
水汽氧化steam oxidation
减压氧化reduced pressure oxidation
高压氧化high pressure oxidation
等离子[体]氧化plasma oxidation
选择氧化selective oxidation
生长率growth rate
正硅酸乙酯tetraethoxysilane;TEOS
石英反应室quartz reaction chamber
石墨承热器graphite susceptor
阳极氧化法anode oxidation method
加热合成氧化技术pyrogenic technique of oxidation
氧化增强扩散oxidation-enhanced diffusion;OED
氧化掩模oxidation mask
氧化层陷阱电荷oxide trapped charge
氧化感生缺陷oxidation-induced defect
氧化感生堆垛层错oxidation-induced stacking fault
界面陷阱电荷interface trapped charge
隔离工艺isolation technology
等平面隔离isoplanar isolation
V形槽隔离V-groove isolation
外延隔离epitaxial isolation
介质击穿dielectric breakdown
介质隔离dielectric isolation
PN结隔离PN junction isolation
平面工艺planar technology
等平面工艺isoplanar process
自隔离self-isolation
自对准隔离工艺self-aligned isolation process
静电保护electrostatic protection
静电放电损伤electrostatic discharge damage
溅射sputtering
直流溅射direct current sputtering

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