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正硅酸乙酯

规范用词正硅酸乙酯

英文对照tetraethoxysilane;TEOS

名词审定电子学名词审定委员会

见载刊物《电子学名词》科学出版社

公布时间1993年

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初缩first minification
精缩final minification
母版master mask
铬版chromium plate
干版dry plate
乳胶版emulsion plate
透明版see-through plate
高分辨率版high resolution plate;HRP
超微粒干版plate for ultra-microminiaturization
掩模mask
掩模对准mask alignment
对准精度alignment precision
光刻胶photoresist
负性光刻胶negative photoresist
正性光刻胶positive photoresist
无机光刻胶inorganic resist
多层光刻胶multilevel resist
电子束光刻胶electron beam resist
X射线光刻胶X-ray resist
刷洗scrubbing
甩胶spinning
涂胶photoresist coating
后烘postbaking
光刻photolithography
X射线光刻X-ray lithography
电子束光刻electron beam lithography
离子束光刻ion beam lithography
深紫外光刻deep-UV lithography
光刻机mask aligner
投影光刻机projection mask aligner
曝光exposure
接触式曝光法contact exposure method
接近式曝光法proximity exposure method
光学投影曝光法optical projection exposure method
电子束曝光系统electron beam exposure system
分步重复系统step-and-repeat system
显影development
线宽linewidth
去胶stripping of photoresist
氧化去胶removing of photoresist by oxidation

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正硅酸乙酯

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