规范用词光刻法
英文对照photolithography
名词定义通常指制作半导体器件(晶体管、集成电路等)的复制法。有接触式光刻、接近式光刻和透影式光刻方法，所用母板称为掩模板。
所属学科机械工程 > 仪器仪表 > 光学仪器 > 光学仪器一般名词
名词审定机械工程名词审定委员会
见载刊物《机械工程名词（第三分册）》 科学出版社
公布时间2003年
